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第五屆國際高技術(shù)高分子材料學(xué)術(shù)會議取得圓滿成功

發(fā)布時間：2009年11月29日

由中國化學(xué)會主辦，中國科學(xué)院化學(xué)研究所高技術(shù)材料實驗室承辦的“第五屆國際高技術(shù)高分子材料學(xué)術(shù)會議”取得圓滿成功。
2008年10月26-31日在北京香山飯店舉辦的會議吸引了10個國家和地區(qū)的152名代表。會議按高分子高技術(shù)材料國際前沿分成三大領(lǐng)域進行討論：1、高技術(shù)高分子材料聚合反應(yīng)及新型聚合物的合成；2、高技術(shù)高分子材料物理、化學(xué)性能，發(fā)光材料、光敏性聚合物、高耐熱性聚合物、高強高韌聚合物、高/低介電性聚合物，功能高分子和生物醫(yī)用高分子，天然高分子及環(huán)境友好高分子；3、高技術(shù)高分子材料的應(yīng)用，光/微電子、航空航天、能源交通等領(lǐng)域。
本次會議共收到學(xué)術(shù)論文144篇，其中有30余篇為博士研究生論文，會議墻報論文展講水平和制作質(zhì)量都較高，討論熱烈，展講時間延長。會議邀請了與會專家對研究生墻報進行評議，最后評出了優(yōu)秀墻報獎3篇，并在閉幕式上頒獎。